新型光刻技术突破EUV极限

文章来源：电子时代

据报道，初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表面发射的原子来定义特征，其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。

      Lace Litho所称的BEUV理论上可以实现更精细的特征，支持晶体管的持续小型化并延伸摩尔定律。该公司由卑尔根大学首席执行官Bodil Holst教授和首席技术官Adria Salvador Palau于2023年7月共同创立，后者在卑尔根大学获得博士学位，但目前在西班牙巴塞罗那运营。传统的EUV系统使用13.5nm波长的光，通过一系列反射镜和掩模在晶圆上形成图案。原子光刻技术能够实现直接无掩模图案化，其分辨率甚至小于受波长限制的EUV系统所能达到的分辨率。该公司在其网站上声称：“通过使用原子代替光，我们为芯片制造商提供了领先当前技术15年的功能，而且成本更低、能耗更低。”Salvador Palau和Holst教授共同撰写了一篇发表在《物理评论A》上的论文，题为《利用中性氦原子进行真实尺寸表面映射》。该论文详细介绍了立体氦显微镜的实现和操作。FabouLACE是一个由欧盟资助的项目，旨在开发基于色散力掩模的氦原子光刻技术，其预算为250万欧元，由欧洲创新委员会提供。该项目启动日期为2023年12月1日，将持续到2026年11月30日。FabouLACE采用亚稳态原子和基于色散力的掩模，可实现2纳米工艺。欧盟委员会表示，Lace光刻技术已获授权在2031年前将该技术推向市场。与此同时，该技术的性能将由IMEC研究机构进行监测和验证。NanoLACE是欧洲早期的一个研究项目，于2024年12月31日结束。该项目于2019年启动，已获得336万欧元的资助，其预算为365万欧元。Lace Lithography于2023年7月筹集了约45万欧元的种子轮融资，由Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、欧洲创新委员会、挪威创新局和挪威研究委员会提供支持。（摘编自eenewseurope）